Resumen

KILIC, Vahti  y  HURMUZLU, Feridun. Efecto del tipo de fuente luz en la resistencia adhesiva de distintas resinas compuestas reparados con una resina bulk-fill. Odovtos [online]. 2021, vol.23, n.1, pp.103-115. ISSN 2215-3411.  http://dx.doi.org/10.15517/ijds.2021.43538.

El objetivo de este estudio fue evaluar y comparar los efectos de diferentes fuentes de luz sobre la resistencia de la unión al cizallamiento cuando se utiliza una resina bulk-fill para la reparación de diferentes resinas compuestas. Se envejecieron un total de 126 muestras fabricadas con seis compuestos de resina con diferentes propiedades (ciclo térmico con 5000 ciclos), expuestas a los mismos tratamientos de superficie y procedimiento adhesivo. Luego, fueron reparadas con una resina bulk- fill. En el paso de polimerización, cada grupo fue dividido en tres subgrupos (n=7) y fotopolimerizado con una fuente de luz QTH por 40s y dos fuentes de luz LED por 20s. Posteriormente, los especímenes se envejecieron en agua destilada a 37 ºC durante 4 semanas y luego se sometieron a una prueba de resistencia adhesiva de cizalla. Luego, los especímenes fueron examinados bajo un estereomicroscopio para identificar los modos de falla y visualizados por el Microscopio Electrónico de Barrido. Los datos obtenidos del estudio fueron analizados usando el ANOVA y la prueba Tukey HSD (α=0.05). En todos los grupos, las unidades de fotopolimerización tuvieron un impacto en la fuerza de adhesión al cizallamiento (p<0,05). Entre los grupos de estudio, los mayores valores de fuerza de adhesión se observaron en los especímenes reparados utilizando el LED y los especímenes reparados con la unidad de fotopolimerización QTH tuvieron los valores de fuerza de adhesión más bajos. Se llegó a la conclusión de que el contenido de las resinas compuestas y las unidades de fotopolimerización pueden influir en la fuerza de adhesión de los diferentes compuestos reparados con resinas bulk-fill.

Palabras clave : Adhesión; Resina bulk-fill; Lámpara de fotocurado; Reparación de resina; MEB.

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