SciELO - Scientific Electronic Library Online

 
vol.23 número1Perfil nutricional de los adultos mayores en una unidad hospitalaria en Costa RicaTendencia de la mortalidad por casos de intoxicaciones en Costa Rica índice de autoresíndice de materiabúsqueda de artículos
Home Pagelista alfabética de revistas  

Servicios Personalizados

Revista

Articulo

Indicadores

Links relacionados

  • No hay articulos similaresSimilares en SciELO

Compartir


Revista Costarricense de Salud Pública

versión impresa ISSN 1409-1429

Resumen

ARANDA BELTRAN, Carolina  y  IBARRA MARTINEZ, Antonio de Jesús. Factores psicosociales y trastornos psíquicos en trabajadores de una empresa maquiladora de electrónica, Guadalajara, México. Rev. costarric. salud pública [online]. 2014, vol.23, n.1, pp.50-57. ISSN 1409-1429.

Objetivo: Analizar los factores de riesgo psicosocial y los trastornos psíquicos a los que están expuestos los trabajadores en las áreas laborales de una maquiladora. Materiales y Métodos: Encuesta de datos generales y laborales, la escala de “Factores Psicosociales en el Trabajo” y el Cuestionario General de Salud de Goldberg. El estudio fue cuantitativo y transversal. La población la conformaron 50 operadores pertenecientes a una nave determinada de la maquiladora. Resultados: Predominó el género femenino con el 77,6. La edad promedio fue de 36,3 años. La prevalencia global de factores psicosociales negativos fue del 58 % (29 sujetos). Se encontraron 8 sujetos (16%) como casos probables de trastorno mental, sin embargo no se obtuvieron datos de asociación significativa. Discusión: mejorar el clima laboral, mantener un adecuado ambiente de trabajo incluyendo el apoyo social, puede disminuir pero sobre todo prevenir el desarrollo de alguna alteración en la salud de los trabajadores optimizando su calidad de vida.

Palabras clave : Manifestaciones Neurocomportamentales; Conducta de Salud.

        · resumen en Inglés     · texto en Español     · Español ( pdf )

 

Creative Commons License Todo el contenido de esta revista, excepto dónde está identificado, está bajo una Licencia Creative Commons